Кина Силициум карбид слој Производител, добавувач, фабрика

VeTek Semiconductor е специјализиран за производство на производи за премачкување со ултра чист силикон карбид, овие премази се дизајнирани да се нанесуваат на прочистен графит, керамика и огноотпорни метални компоненти.

Нашите премази со висока чистота се првенствено наменети за употреба во индустријата за полупроводници и електроника. Тие служат како заштитен слој за носачи на обланди, сензори и грејни елементи, заштитувајќи ги од корозивни и реактивни средини што се среќаваат во процеси како што се MOCVD и EPI. Овие процеси се составен дел на обработката на нафора и производството на уреди. Дополнително, нашите облоги се добро прилагодени за примена во вакуумски печки и загревање на примероци, каде што се среќаваат средини со висок вакуум, реактивна и кислородна средина.

Во VeTek Semiconductor, нудиме сеопфатно решение со нашите напредни способности за машинска продавница. Ова ни овозможува да ги произведуваме основните компоненти користејќи графит, керамика или огноотпорни метали и да ги нанесуваме керамичките облоги SiC или TaC во куќата. Ние, исто така, обезбедуваме услуги за обложување на деловите што ги набавуваат клиентите, обезбедувајќи флексибилност за задоволување на различни потреби.

Нашите производи за обложување со силикон карбид се широко користени во Si epitaxy, SiC епитаксии, MOCVD систем, RTP/RTA процес, процес на офорт, ICP/PSS процес на офорт, процес на различни типови LED, вклучувајќи сини и зелени LED, UV LED и длабоко UV LED итн., Која е прилагодена на опрема од LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI и така натаму.

Делови од реакторот што можеме да ги направиме:

Слој со силикон карбид неколку уникатни предности:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Параметар за обложување со силикон карбид на полупроводник VeTek:

Основни физички својства на CVD SiC облогата
Имотот	Типична вредност
Кристална структура	FCC β фаза поликристална, главно (111) ориентирана
Густина	3,21 g/cm³
Цврстина	2500 Викерс цврстина (оптоварување 500 g)
Големина на жито	2 ~ 10 μm
Хемиска чистота	99,99995%
Топлински капацитет	640 J·kg-1·K-1
Температура на сублимација	2700 ℃
Јачина на свиткување	415 MPa RT 4-точка
Модулот на Јанг	430 Gpa 4pt кривина, 1300℃
Топлинска спроводливост	300W·m-1·K-1
Термичка експанзија (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

Цврста SiC гасна глава за туширање

VeTek Semiconductor е водечки производител и иноватор за туширање со цврст SiC гас во Кина. Ние сме специјализирани за полупроводнички материјали многу години. , осигурувајќи дека подлогата се загрева рамномерно. Со нетрпение очекуваме да поставиме долгорочно со вас во Кина.

Прочитај повеќе Испрати барање

Процес на таложење на хемиска пареа Цврст SiC раб прстен

VeTek Semiconductor е водечки производител и иноватор во Кина за процесот на таложење на пареа со цврсти SiC рабови. Ние сме специјализирани за полупроводнички материјали многу години. , обезбедувајќи конзистентни и сигурни резултати од офорт. Со нетрпение очекуваме да станеме ваш долгорочен партнер во Кина.

Прочитај повеќе Испрати барање

Цврст SiC офорт за фокусирање на прстен

VeTek Semiconductor е водечки производител и иноватор за фокусирање на прстен за офорт со цврст SiC и иноватор. Ние сме специјализирани за SiC материјал многу години. Цврстиот SiC е избран за прстен материјал за фокусирање поради неговата одлична термохемиска стабилност, висока механичка сила и отпорност на плазма ерозија. Со нетрпение очекуваме да станеме ваш долгорочен партнер во Кина.

Прочитај повеќе Испрати барање

<...12 13 14 15 16 >

Како професионален Силициум карбид слој производител и добавувач во Кина, имаме сопствена фабрика. Без разлика дали ви требаат приспособени услуги за да ги задоволите специфичните потреби на вашиот регион или сакате да купите напредни и издржливи Силициум карбид слој произведени во Кина, можете да ни оставите порака.