Цврст SiC офорт за фокусирање на прстен

Можете да бидете сигурни дека ќе купите прстен за фокусирање со офорт со цврст SiC од нашата фабрика. Револуционерната технологија на VeTek Semiconductor овозможува производство на прстен за фокусирање со офорт со цврст SiC, материјал од силициум карбид со ултра висока чистота создаден преку процесот на хемиско таложење на пареа.

Прстенот за фокусирање на офорт со цврст SiC се користи во процесите на производство на полупроводници, особено во системите за офорт со плазма. Цврстиот прстен за фокусирање на офорт SiC е клучна компонента што помага да се постигне прецизно и контролирано офортување на наполитанките од силициум карбид (SiC).

За време на процесот на плазма офорт, прстенот за фокусирање игра повеќе улоги:

1. Фокусирање на плазмата: Цврстиот прстен за фокусирање на офорт SiC помага да се обликува и концентрира плазмата околу обландата, осигурувајќи дека процесот на офорт се одвива подеднакво и ефикасно. Тоа помага да се ограничи плазмата во саканата област, спречувајќи залутано гравирање или оштетување на околните региони.

2. Заштита на ѕидовите на комората: Фокусниот прстен делува како бариера помеѓу плазмата и ѕидовите на комората, спречувајќи директен контакт и потенцијално оштетување. SiC е високо отпорен на плазма ерозија и обезбедува одлична заштита за ѕидовите на комората.

3. Контрола на температурата: Фокусниот прстен помага во одржувањето на рамномерна распределба на температурата низ обландата за време на процесот на офорт. Помага да се троши топлината и спречува локализирано прегревање или термички градиенти кои би можеле да влијаат на резултатите од офорт.

Цврстиот SiC е избран за фокусирање на прстените поради неговата извонредна топлинска и хемиска стабилност, високата механичка сила и отпорноста на ерозија на плазмата. Овие својства го прават SiC соодветен материјал за суровите и тешки услови во системите за офорт со плазма.

Вреди да се напомене дека дизајнот и спецификациите на прстените за фокусирање може да варираат во зависност од специфичниот систем за плазма офорт и барањата на процесот. VeTek Semiconductor ги оптимизира обликот, димензиите и карактеристиките на површината на прстените за фокусирање за да обезбеди оптимални перформанси на офорт и долговечност. Цврстиот SiC е широко користен за носачи на нафора, сенцептори, кукла нафора, водилки прстени, делови за процес на офорт, процес на CVD итн.

Параметар на производот на цврстиот прстен за фокусирање на офорт SiC

Продавница за производство на полупроводници VeTek