Што е CVD TAC облога?

Како што сите знаеме,TaCима точка на топење до 3880°C, висока механичка сила, цврстина, отпорност на термички удари; добра хемиска инертност и топлинска стабилност на амонијак, водород, пареа што содржи силикон при високи температури.

CVD TAC облога, хемиско таложење на пареа (CVD) наоблога од тантал карбид (TaC)., е процес за формирање на облога со висока густина и издржливост на подлога (најчесто графит). Овој метод вклучува депонирање на TaC на површината на подлогата при високи температури, што резултира со облога со одлична термичка стабилност и хемиска отпорност.

Главните предности на CVD TaC облогите вклучуваат:

Исклучително висока термичка стабилност: може да издржи температури над 2200°C.

Хемиска отпорност: може ефикасно да се спротивстави на груби хемикалии како што се водород, амонијак и силициумска пареа.

Силна адхезија: обезбедува долготрајна заштита без раслојување.

Висока чистота: ги минимизира нечистотиите, што го прави идеален за полупроводнички апликации.

Овие премази се особено погодни за средини кои бараат висока издржливост и отпорност на екстремни услови, како што се производство на полупроводници и индустриски процеси со висока температура.

Во индустриското производство, материјалите од графит (јаглерод-јаглерод композит) обложени со TaC облога многу веројатно ќе го заменат традиционалниот графит со висока чистота, pBN облогата, деловите за обложување на SiC итн. да се користи како високотемпературна антиоксидациска и антиаблација облога и има широки можности за примена. Сепак, сè уште има многу предизвици за да се постигне подготовка на густа, униформа, не-лупечка TaC облога на површината на графитот и да се промовира индустриското масовно производство.

Во овој процес, истражувањето на заштитниот механизам на облогата, иновирањето на производствениот процес и натпреварувањето со највисокото странско ниво се клучни за растот и епитаксијата на полупроводничките кристали од третата генерација.