Подложен за обложување TaC

Подлошката и прстенот обложен со TaC на VeTek Semiconductor работат заедно во реакторот за епитаксијален раст на LPE силикон карбид:

Отпорност на висока температура: TaC обвивката има одлична отпорност на висока температура, способна да издржи екстремни температури до 1500°C во реакторот LPE. Ова осигурува дека опремата и компонентите не се деформираат или оштетуваат за време на долготрајно работење.

Хемиска стабилност: TaC чувствителната обвивка работи исклучително добро во опкружувањето за раст на корозивни силициум карбид, ефикасно ги штити компонентите на реакторот од корозивни хемиски напади, а со тоа го продолжува нивниот животен век.

Термичка стабилност: Температурниот слој на TaC има добра термичка стабилност, одржувајќи ја морфологијата и грубоста на површината за да се обезбеди униформност на температурното поле во реакторот, што е корисно за висококвалитетниот раст на епитаксијалните слоеви на силициум карбид.

Анти-контаминација: мазната површина обложена со TaC и супериорните перформанси на TPD (температурно програмирана десорпција) може да ја минимизираат акумулацијата и адсорпцијата на честички и нечистотии во реакторот, спречувајќи ја контаминацијата на епитаксијалните слоеви.

Накратко, сензорот и прстенот обложен со TaC играат критична заштитна улога во реакторот за епитаксијален раст на LPE силикон карбид, обезбедувајќи долгорочно стабилно функционирање на опремата и висококвалитетен раст на епитаксијалните слоеви.

Параметар на производот на TaC обложување сусцептор:

Индустриски синџир:

Продавница за производство