Порозен графит со обложен TaC

Порозен графит со обложен TaC е напреден материјал за обработка на полупроводници обезбеден од VeTek Semiconductor. Порозниот графит со обложен TaC ги комбинира предностите на порозниот графит и облогата од тантал карбид (TaC), со добра топлинска спроводливост и пропустливост на гас. VeTek Semiconductor е посветен на обезбедување на квалитетни производи по конкурентни цени и со нетрпение очекуваме да бидеме ваш долгорочен партнер во Кина.

Испрати барање

Опис на производот

VeTek Semiconductor е кинески производител и снабдувач кој главно произведува порозен графит со TaC обложен со долгогодишно искуство. Се надевам дека ќе изградиме деловни односи со вас.

VeTek Полупроводнички порозен графит со материјал обложен со TaC е револуционерен материјал за производство на полупроводници кој совршено го комбинира порозниот графит со облогата од тантал карбид (TaC). Овој порозен графит со материјал обложен со TaC има одлична пропустливост и висока порозност, со максимална порозност од 75%, поставувајќи меѓународен рекорд во индустријата. TaC облогата со висока чистота не само што ја подобрува отпорноста на корозија и абење на порозниот графит, туку обезбедува и дополнителен слој на заштита, ефикасно решавајќи ги предизвиците како што се обработката и корозијата.

Употребата на порозен графит обложен со TaC може значително да ја подобри ефикасноста и квалитетот на процесот на производство на полупроводници. Неговата одлична пропустливост обезбедува стабилност на материјалот при високи температурни услови и ефикасно го контролира зголемувањето на јаглеродните нечистотии. Во исто време, дизајнот со висока порозност обезбедува подобри перформанси на дифузија на гас за да помогне во одржувањето на чиста средина за раст.

Посветени сме на клиентите да им обезбедиме одличен порозен графит со обложени TaC материјали за да ги задоволиме потребите на индустријата за производство на полупроводници. Без разлика дали се работи за истражувачки лаборатории или индустриско производство, овој напреден материјал може да ви помогне да постигнете одлични перформанси и доверливост. Контактирајте со нас денес за да дознаете повеќе за овој револуционерен материјал и да започнете со вашето патување на иновации за да го поттикнете производството на полупроводници.

PVT метод SiC Crystal Growth

Параметар на производот на порозен графит со обложен TaC

Физички својства на TaC облогата
Густина	14,3 (g/cm³)
Специфична емисивност	0.3
Коефициент на термичка експанзија	6,3 10-6/К
Цврстина (HK)	2000 HK
Отпор	1×10-5 Ом*см
Термичка стабилност	<2500℃
Големината на графитот се менува	-10-20 мм
Дебелина на облогата	≥20um типична вредност (35um±10um)